Wafers are coated with a layer of l

Wafers are coated with a layer of light-sensitive photoresist. Specified sections of the
wafer are exposed by projecting ultraviolet light onto the wafer through a mask. A
photoresist pattern, which will protect an underlying film from a subsequent etch step,
is produced.

結果 (日本語) 1:

ウェーハは、光に敏感なフォトレジストの層でコーティングされています。セクションを指定しますウェーハは、マスクを通したウエハの上に投影する紫外光によって公開されます。A後続のエッチングのステップから、基になるフィルムを保護する、フォトレジスト パターン生成されます。

結果 (日本語) 2:

ウェーハは、感光性フォトレジストの層で被覆されます。の指定したセクション
ウエハはマスクを介してウエハ上に紫外光を投影することによって露出されます。
後続のエッチングステップから下地膜を保護するフォトレジストパターンは、
生成されます。

結果 (日本語) 3:

ウエハに感光性のフォトレジストのレイヤーでおおわれている。ウェーハの特定の部分をマスクに紫外光をウェハ上に投影露光した。aのパターンをフォトレジスト下層膜は、次のエッチ・ステップから保護し、生産されます。